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查看详情本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形:
——原子序数从16(S)到92(U)的元素;
——原子表面密度介于1×1010atoms/cm2~1×1014atoms/cm2之间的污染元素;
——采用VPD(气相分解)样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108atoms/cm2~5×1012atoms/cm2之间的污染元素(见3.4)。
中国计量科学研究院、华南理工大学
王海 张艾蕊 王梅玲 任丹华 徐昕荣 范燕
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