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【国家标准】刻蚀机用硅电极及硅环

标号:GB/T 41652-2022 状态: 定价:29元/折扣价: 24.65元

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标准简介

本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm~450mm的硅电极及硅环。

基本信息

标准号:GB/T 41652-2022 标准名称:刻蚀机用硅电极及硅环 英文名称:Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine 标准状态: 发布日期:2025-08-17 实施日期:0 出版语种:中文简体 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) 提出部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) 发布部门:国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
标准标签: GB/T41652-2022

出版信息

页数:12 字数:17 开本:大16

标准分类号

标准ICS号:29.045 中标分类号:H82

起草单位

有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司

起草人

库黎明 孙燕 闫志瑞 张果虎 夏秋良 潘金平

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