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【国家标准】电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法

标号:GB/T 37049-2018 状态: 定价:29元/折扣价: 24.65元

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标准简介

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
本标准适用于GB/T12963中在基体金属杂质小于5ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。

基本信息

标准号:GB/T 37049-2018 标准名称:电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 英文名称:Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method 标准状态: 发布日期:2025-05-12 实施日期:0 出版语种:中文简体 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2) 提出部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2) 发布部门:国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
标准标签: GB/T37049-2018

出版信息

页数:12 字数:11 开本:大16

标准分类号

标准ICS号:77.040.30 中标分类号:H17

起草单位

江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司

起草人

鲁文锋 刘晓霞 秦榕 孙燕 赵而敬 王桃霞 赵玉 王忠慧 柳德发 张园园 银波 邱艳梅 刘强

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