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查看详情本标准规定了采用惰性气体熔融及红外技术测试硅材料中氧含量的方法。
本标准适用于不同导电类型、不同电阻率范围的硅单晶、多晶硅中氧含量的测试,测试范围为2.5×1015cm-3(0.05ppma)~2.5×1018cm-3(50ppma)。
注:硅材料中的氧含量以每立方厘米中的原子数计。
有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、北京聚睿众邦科技有限公司、厦门银固美能源科技有限公司
王永涛 孙燕 徐新华 胡金枝 任丹雅 赵志婷 蔡丽艳 杨素心 陆敏 林兴乐
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