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【国家标准】表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法

标号:GB/T 40109-2021 状态: 定价:31元/折扣价: 26.35元

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标准简介

本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法,以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。
本文件适用于硼原子浓度范围1×1016atoms/cm3~1×1020atoms/cm3的单晶硅、多晶硅或非晶硅样品,溅射弧坑深度在50nm及以上。

基本信息

标准号:GB/T 40109-2021 标准名称:表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法 英文名称:Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon 标准状态: 发布日期:2025-07-20 实施日期:0 出版语种:中文简体 归口单位:全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38) 提出部门:全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38) 发布部门:国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
标准标签: GB/T40109-2021

出版信息

页数:16 字数:20 开本:大16

标准分类号

标准ICS号:71.040.40 中标分类号:G04

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所

起草人

马农农 何友琴 陈潇 张鑫 王东雪 李展平

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